[2018]Layer controlled TMDC films by sulfurization of W film deposited by ALD method via Metal-Organic Chemical Vapor Deposition > 학회발표

본문 바로가기

팝업레이어 알림

팝업레이어 알림이 없습니다.
  • 숙명여자대학교 화학과 대학원
  • 숙명여자대학교
  • 숙명여자대학교 화학과
  • 사이트맵
English
Korea


Research - 학회발표
    • 학회발표
    • [2018]Layer controlled TMDC films by sulfurization of W film deposited by ALD method via Metal-Organic Chemical Vapor Deposition

      presenter : 이유빈
      conference : 제54회 한국진공학회 동계정기학술대회, 한국진공학회, February 7, 2018.

      content


우) 04310 서울특별시 용산구 청파로47길 100 (청파동2가) 숙명여자대학교 화학과 TEL : 02)710-9413 FAX : 02)2077-7321
COPYRIGHT ⓒ SOOKMYUNG WOMEN'S UNIVERSITY ALL RIGHTS RESERVED.